潔凈棚具備多種潔凈等級及空間搭配可以根據(jù)使用需求設(shè)計(jì)制作，因此其簡便運(yùn)用彈性大安裝容易且施工期短以及可移性為其主要特點(diǎn)，潔凈棚同時(shí)可針對在一般等級的潔凈室中局部地區(qū)需要高潔凈度的地方做局部增設(shè)以降低成本。潔凈棚是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設(shè)備。潔凈棚主要由箱體、風(fēng)機(jī)、初效空氣過濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該產(chǎn)品既可懸掛，又可地面支撐，結(jié)構(gòu)緊湊，使用方便?？梢詥蝹€(gè)使用，也可多個(gè)連接組成帶狀潔凈區(qū)域。 潔凈室的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。

　　濕度過高產(chǎn)生的問題更多，相對濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。

　　具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)椴僮魅藛T出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。